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冠層分析儀的使用要注意這幾個細節
發布時間： 2021-06-27 點擊次數： 1935次冠層分析儀就是屬于光學法的，特點是攜帶方便，不需要進行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數值，原理是在假定植物冠層內的各元素隨機分布，依據冠層間隙度或光學特性反演葉面積指數。缺點是測量所得葉面積指數有著較大的偏差。葉片的聚集效應越強，偏差越大。因此在測量時，一般需要用直接法校正。測量時根據果園的大小。分別設置3-5個測量點，在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上，將方框內的的葉片全部摘下，用葉面積儀測量框內的葉面積，然后根據樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對應測量天空5個范圍的散射輻射，這5個范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度，并根據轉換模型估算葉面積指數。在每一個測點的冠層頂部測一次，下部重復測量6-10次，冠層下方的測量在同一水平面上，且在無直接輻射的條件下進行。為了避免光環境迅速的變化對測量結果的影響，選擇無直接輻射的條件下進行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進一步加工以校正估值葉面積指數。